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TOF-DR软件课堂之Profile analysis (三)

TOF-DR软件是PHI TOF-SIMS数据分析的核心利器,本系列文章将持续分享该软件的常用功能及数据处理技巧。

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原位AES-EDS-FIB对埋藏金属颗粒的探测、鉴定和成像

利用原位AES、EDS和FIB技术,成功实现对埋藏颗粒的精准分析。在同一腔室内,依次采用EDS定位埋藏颗粒、FIB暴露颗粒截面、AES精确分析颗粒成分,从而实现对样品表层下方(亚表层)埋藏金属颗粒的检测与表征。

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PHI AES和XPS助力优化先进制造工艺

AES结合XPS揭示了PBF-LB过程中飞溅颗粒的生成及氧化行为,为优化增材制造工艺提供了新见解。

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冶金样品的腐蚀分析:PHI 710俄歇电子能谱多技术联用分析方法

PHI 710拥有先进的扫描俄歇纳米探针系统,能够在纳米尺度上实现夹杂物成分识别、元素成像分析及深度分析等。此外,AES还可在单一超高真空系统中整合SEM、AES、EDS与EBSD技术,多技术联用俄歇电子能谱仪可高效开展对纳米级微区样品的精准分析。

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爱发科费恩斯(南京)仪器有限公司
ULVAC-PHI是全球领先的超高真空表面分析仪器供应商。专注于研发和生产表面分析仪器,包括光电子能谱仪(XPS)、俄歇电子能谱仪(AES)、飞行时间二次离子质谱仪(Tof-SIMS)和动态二次离子质谱仪(D-SIMS)。通过提供独特的技术解决方案,帮助客户解决各种具有挑战性的问题,从而加速新产品和新技术的发展。产品应用领域包括纳米技术、太阳能技术、微电子技术、存储介质、催化、生物材料、药品以及金属、矿物、聚合物、复合材料和涂料等基础材料。

作为唯一一家能够同时提供高性能XPS、AES和SIMS全系列表面分析仪器的制造商,ULVAC-PHI在全面性和完整性的表面分析解决方案领域拥有独特的地位。
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